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實驗室膠體磨

實驗室膠體磨

簡要描述:實驗室膠體磨,三級錯齒膠體磨,在線式研磨設(shè)備,德國膠體磨上?;旌显O(shè)備廠家,cik膠體磨細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。

產(chǎn)品型號: NK2000

所屬分類:實驗室膠體磨

更新時間:2024-08-26

詳細說明:

期待您的來電!如您有購買產(chǎn)品的意向,歡迎隨時來參觀本公司,了解我們的機器,本公司銷售產(chǎn)品皆配有樣機可供客戶試機等,以便您選購?。。?/span>

  

【產(chǎn)品介紹】

  本機組是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果

   NK2000系列膠體磨是專門針對那些需要很好乳化和分散效果的生產(chǎn)。NK2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

   

CIK膠體磨與傳統(tǒng)膠體磨比較

☆ 高效、節(jié)能
傳統(tǒng)設(shè)備需8小時的分散加工過程,NK設(shè)備1小時左右完成,超細分散*,能耗極大降低;

☆ 高速、高品質(zhì)
傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細分散能力極為有限;NK設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細分散漿料中的粉體。

影響分散研磨結(jié)果的因素有以下幾點

  1 、膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)

  2 、膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

  3 、物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

  4 、循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

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線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉(zhuǎn)子間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
CIK 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

 

產(chǎn)品選型表

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

NK2000/4

300-1,000

9,000

23

2.2

DN25

DN15

NK2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40

DN32

NK2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50

DN50

NK2000/20

20,000

3,000

23

37

DN80

DN65

NK2000/30

40,000

1,500

23

55

DN150

DN125

NK2000/40

70,000

1,500

23

90

DN150

DN125

 

 

 

 

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